{{{sourceTextContent.title}}}

Las cámaras TVAC revolucionan los procesos de limpieza en la producción de máquinas litográficas

{{{sourceTextContent.subTitle}}}

Por qué las cámaras de vacío térmicas son esenciales en la producción litográfica

{{{sourceTextContent.description}}}

En el mundo altamente preciso de la fabricación de semiconductores, mantener los componentes ultralimpios es fundamental para garantizar un rendimiento óptimo de las máquinas de litografía, la piedra angular de la producción de chips. Las cámaras de vacío térmico (cámaras TVAC) desempeñan un papel fundamental en este proceso, ya que permiten realizar tratamientos avanzados de limpieza y desgasificación que cumplen las estrictas normas internacionales.

Las máquinas litográficas modernas, como las fabricadas por líderes del sector como ASML, requieren componentes con niveles de contaminación ultrabajos para evitar defectos en el modelado de chips a nanoescala. Los materiales orgánicos residuales, las partículas o la desgasificación de las superficies metálicas pueden alterar la integridad del vacío y provocar retrasos en la producción y pérdidas de rendimiento.

Las cámaras de vacío térmico abordan estos retos mediante:

A. Eliminación de contaminantes orgánicos: Los entornos de vacío a alta temperatura (hasta 300 °C) garantizan la eliminación completa de hidrocarburos, disolventes y residuos de los componentes de acero inoxidable, titanio y aleaciones de aluminio;

B.Reducción de la desgasificación: Los sistemas TVAC alcanzan niveles de vacío <1×10-⁷ Torr, críticos para evitar la desorción de gases que podría interferir con los procesos de litografía EUV (Ultravioleta Extremo);

C.Mejora de la adhesión a la superficie: Tras la limpieza, las piezas presentan una adherencia superior con los revestimientos fotorresistentes, crucial para la transferencia precisa de patrones en la litografía DUV (Ultravioleta Profundo) y EUV;

Cumplimiento de las normas internacionales con la avanzada tecnología TVAC:

Nuestras soluciones de pruebas de cámara de vacío térmico cumplen con:

ASTM E1559: Validación del rendimiento de desgasificación para la limpieza de semiconductores.

ISO 14644-1: Garantía de compatibilidad con salas limpias de clase 1-9 para superficies libres de partículas.

Normas SEMI: Garantizan la compatibilidad con los requisitos de manipulación de obleas y componentes ópticos.

Entre los parámetros técnicos clave de nuestros sistemas de cámara de vacío térmica se incluyen:

✔ Rango de temperatura: de -70°C a +300°C (con ciclos térmicos rápidos para pruebas de estrés)

✔ Nivel de vacío: 10-⁷ Torr (UHV) a 10-⁹ Torr (XHV) para aplicaciones de alta pureza

✔ Opciones de purga de gas: Limpieza por plasma de N₂, Argón u O₂ para tratamientos superficiales especializados

✔ Calentamiento uniforme: estabilidad de temperatura de ±0,5 °C para evitar el estrés térmico en ópticas delicadas

Aplicaciones en la fabricación de máquinas litográficas

1.Óptica y limpieza de espejos: Los espejos de litografía EUV requieren superficies ultralimpias para minimizar la dispersión de la luz. Nuestra cámara de vacío térmica garantiza una óptica libre de partículas mediante la desorción térmica controlada.

2.Desgasificación de obleas: Evite la microcontaminación en sistemas de alineación de obleas de alta precisión eliminando los gases adsorbidos de los componentes mecánicos.

3.Curado de fotorresistencias y horneado duro: Algunos resistivos avanzados requieren un curado térmico a baja presión, que se puede conseguir en nuestra cámara de pruebas de vacío para obtener patrones sin defectos.

Fabricación de semiconductores a prueba de futuro

A medida que los fabricantes de chips avanzan hacia los nodos de menos de 3 nm, la demanda de componentes ultralimpios y con baja emisión de gases no hará más que crecer. Nuestras soluciones de sistemas de vacío térmico están diseñadas para hacer frente a estos retos en constante evolución, garantizando un mayor rendimiento, un menor tiempo de inactividad y el cumplimiento de los estándares de semiconductores de próxima generación.

Para obtener más información sobre cómo nuestras cámaras TVAC pueden optimizar su línea de producción litográfica, póngase en contacto con nosotros hoy mismo.